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碱抛光刻蚀清洗设备

碱抛光刻蚀清洗设备

制绒产能400片设备:单晶>8500片/h,多晶>9000片/h碎片率和良率碎片率≤0.01%,良率99.8%Uptime≥98.5%产品适应性适用于硅片尺寸:156?156mm,Max:210?210mm;硅片厚度120-200um减薄亮和背面绒面1-5um,绒面1-5um...

制绒产能

400片设备:单晶>8500/h,多晶>9000/h

碎片率和良率

碎片率≤0.01%,良率99.8%

Uptime

98.5%

产品适应性

适用于硅片尺寸:156?156mm,

Max210?210mm;硅片厚度120-200um

减薄亮和背面绒面

1-5um,绒面1-5um可调(兼容双面)

纯水预热系统

热水温度在75-80°C,减少换液时间

减薄量均匀性

允许偏差3%(每篮抽测减薄量偏差,大花篮与大花篮之间减薄量偏差)

温度控制精度

±0.8℃

自动补液

工艺槽体药液使用自动补液系统,(流量计、磁致伸缩液位计配合恒压罐计时添加)

下料干燥要求

搭配超高洁净度干燥系统(氮气辅助加热)

下料后抛光发射率

单面电池反射率≥40%,双面电池反射率40%

硅片外观

干进干出,干燥系统配置超高精度过滤器

参数纪录

保存最近1年以上参数修改纪录(工控机控制,预留MES通讯接口)


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